Труды КНЦ (Технические науки вып.2/2023(14))

Труды Кольского научного центра РАН. Серия: Технические науки. 2023. Т. 14, № 2. С. 82-86. Transactions of the Kola Science Centre of RAS. Series: Engineering Sciences. 2023. Vol. 14, No. 2. P. 82-86. 4. Pavlenko O. B., Ustinova Yu. A., Zhuk S. I., Suzdaltsev A. V., Zaikov Yu. P. Silicon electrodeposition from low-melting LiCl — KCl — CsCl melts. Rus. Met. (Metally), 2022, vol. 2022 (8), pp. 818-824. 5. Gevel T. A., Zhuk S. I., Leonova N. M., Leonova A. M., Suzdaltsev A. V., Zaikov Yu. P. Electrodeposition of silicon from the KCl — CsCl— K 2 SiF 6 melt. Rus. Met. (Metally), vol. 2022 (8), pp. 958-964. 6. Yasuda K., Kato T., Norikawa Yu., Nohira T. Silicon electrodeposition in a water-soluble KF — KCl molten salt: Properties of Si films on graphite substrates. J. Electrochem. Soc., 2021, vol. 168, pp. 112502. 7. Zhuk S. I., Isakov A. V., Apisarov A. P., Grishenkova O. V., Isaev V. A., Vovkotrub E. G., Zaikov Yu. P. Electrodeposition of continuous silicon coatings from the KF — KCl — K 2 SiF 6 melts. J. Electrochem. Soc., 2017, vol. 164 (8), p. H5135. 8. Zhuk S. I., Gevel T. A., Zaikov Yu. P. Vliyanie materiala podlozhki na kinetiku i mekhanizm elektroosazhdeniya kremniya iz rasplava KCl — KF — K 2 SiF6 [Influence of the substrate material on the kinetics and mechanism of silicon electrodeposition from the KCl — KF — K 2 SiF 6 melt]. Rasplavy [Melts] 2021, no. 4, pp. 354-364. (In Russ.). 9. Laptev M. V., Isakov A. V., Grishenkova O. V., Vorob'ev A. S., KhudorozhkovaA. O., Akashev L. A., Zaikov Yu. P. Electrodeposition ofthin silicon films from the KF — KCl— KI — K 2 SiF6melt. J. Electrochem. Soc. , 2020, vol. 167, no. 4, p. 042506. Информация об авторах С. И. Жук — младший научный сотрудник, http://orcid.org/0000-0003-2889-7318; Л. И. Минченко — инженер; А. В. Суздальцев — доктор химических наук, заведующий лабораторией; А. В. Исаков — кандидат химических наук, заведующий лабораторией; Ю. П. Зайков — доктор химических наук, научный руководитель Института. Information about the authors S. I. Zhuk — young researcher; L. I. Minchenko — engineer; A.V. Suzdaltsev — Dr. Sc. (Chemistry), lab head; A.V. Isakov — PhD (Chemistry), lab head; Yu. P. Zaikov — Dr. Sc. (Chemistry), Scientific Director of the Institute. Статья поступила в редакцию 30,01.2023; одобрена после рецензирования 31.01.2023; принята к публикации 01.02.2023. The article was submitted 30,01.2022; approved after reviewing 31.01.2023; accepted for publication 01.02.2023. © Жук С. В., Минченко Л. М., Суздальцев А. В., Исаков А. В., Зайков Ю. П., 2023 86