Труды КНЦ вып.3 (ХИМИЯ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ) вып. 1/2019(10))

оптимального соотношения газов Ar / O 2 в составе рабочей смеси. Подобранные соотношения рабочей смеси газов Ar / O 2 , дающие наилучший результат параметров получаемых пленок толщиной 130 нм, приведены в таблице. Параметры полученных пленок TCO The parameters of the obtained TCO films Состав Рабочая смесь газов Поверхностное сопротивление, КОм/л Интегральный коэффициент пропускания в диапазоне 300-600 нм 1П 2 О 3 Ar (84%) / О 2 (16%) 0,28 0,82 ZnO Ar (90 %) / О 2 (10 %) 4,3 0,87 SnO 2 Ar (92 %) / О 2 (8 %) 100 0,76 Полученные результаты показывают, что даже при очень тщательном подборе состава рабочей атмосферы при реактивном ионно-плазменном распылении мишеней Sn, In и Zn без проведения высокотемпературного отжига получаемое сопротивление пленок TCO выше, нежели при их синтезе на нагретые подложки или с проведением последующего отжига полученных, например, в [5]. Исследование выполнено при финансовой поддержке РФФИ в рамках научного проекта № 18-29-11037. Литература 1. Kuznetsova S. A., Pichugina A. A., Kozik V. V. Microwave Synthesis of Photocatalytically active SnO-Based Material // Inorganic Materials. 2014. Vol. 50, Mo. 4. P. 387-391. 2. Семикина Т. В., Комащенко В. Н., Шмырева Л. Н. Оксидная электроника как одно из направлений прозрачной электроники // Электроника и связь. Киев, 2010. №3. С. 20-28. 3. Исследование влияния материала электродов сенсибилизированных солнечных элементов на емкостные и электрические характеристики / П. Лазаренко и др. // Известия вузов. Физика. 2018. Т. 61, № 1. С. 171-176. 4. Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А. И. Бажин и др. // Физическая инженерия поверхности. 2012. Т. 10, № 4. С. 342-349. 5. Жидик Ю. С., Троян П. Е. Технология получения электропроводящих пленок ITO высокой оптической прозрачности с низким значением величины удельного поверхностного сопротивления // Доклады ТУСУР. 2012. № 2 (26), ч. 2. С. 169-171. 6. Амосова Л. П. Электрооптические свойства и структурные особенности аморфного ITO // Физика и техника полупроводников. 2015. Т. 49, вып. 3. С. 426-430. 7. Амосова Л. П., Исаев М. В. Магнетронное напыление прозрачных электродов ITO из металлической мишени на холодную подложку // Журнал технической физики. 2014. Т. 84, вып. 10. С. 127-132. 8. Крылов П. Н., Закирова Р. М., Федотова И. В. Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO -пленок // Физика и техника полупроводников. 2014. Т. 48, вып. 6. С. 763-767. 97

RkJQdWJsaXNoZXIy MTUzNzYz