Труды КНЦ вып.3 (ХИМИЯ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ) вып. 1/2019(10))

Evstropova Polina Evgenievna Student, Apatity Branch of the Murmansk State Technical University, Apatity, polinaevstropova@yandex.ru Maslova Marina Valentinovna Dr. Sci. (Eng.), Tananaev Institute of Chemistry and Technology of Rare Elements and Mineral Raw Materials of FRC KSC RAS, Apatity, maslova@chemy.kolasc.net.ru DOI: 10.25702/KSC.2307-5252.2019.10.1.93-98 УДК 539.231 Ю. С. Жидик 1, 2 , П. Е. Троян 1 , А. В. Заболотская 3 , С. А. Кузнецова 3 , В. В. Козик 3 1 Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, г. Томск, Россия 2 Институт оптики атмосферы им. В. Е. Зуева Сибирского отделения РАН, г. Томск, Россия 3 Национальный исследовательский Томский государственный университет, г. Томск, Россия ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК ОКСИДОВ МЕТАЛЛОВ Sn, In, Zn МЕТОДОМ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ И ИХ СВОЙСТВА Аннотация. Рассматриваются вопросы нанесения TCO -пленок методом реактивного ионноплазменного распыления металлических мишений на подложки без предварительного нагрева и последующего отжига. Показано, что точный подбор состава рабочей атмосферы позволяет действитально получить оптимальное сочетание оптических и электрических свойств. Из исследуемых пленок In 2 O 3 , ZnO и SnO 2 лучшие характеристики показали пленки In 2 O 3 , поверхностное сопротивление которых составило 280 Ом/п. Так же в статье даются рекомендаци, способствующие снижению поверхностного сопротивления пленок TCO, напыленных при рассматриваемых условиях. Ключевые слова: прозрачные проводящие пленки (TCO), реактивное магнетронное распыление, ионное ассистирование, напыление на полимерные подложки. Yu. S. Zhidik 1, 2 , P. E. Troyan 1 , A. V. Zabolotskaya 3 , S. A. Kuznetsova 3 , V. V. Kozik 3 1 Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, Tomsk, Russia 2 Zuev Institute of Atmospheric Optics of SB RAS, Tomsk, Russia 3 National Research Tomsk State University, Tomsk, Russia SYNTHESIS OF Sn, In, Zn METALS OXIDE FILMS BY THE METHOD OF ION-PLASMA SPUTTERING AND THEIR PROPERTIES Abstract. The article deals with the application of TCO films by the method of reactive ion- plasma sputtering of metal targets on substrates without preheating and subsequent annealing. It has been shown that the exact selection of the composition of the working atmosphere really allows you to get the optimal combination of optical and electrical properties. Of the In 2 O 3 , ZnO and SnO 2 films studied, In 2 O 3 films showed the best characteristics, with their surface resistance 280 Ohm /п. The article also provides recommendations that help reduce the surface resistance of TCO films deposited under the conditions considered. Keywords : transparent conductive films (TCO), reactive magnetron sputtering, ion aspiration, deposition on polymer substrates. 93

RkJQdWJsaXNoZXIy MTUzNzYz