Труды КНЦ вып.3 (ХИМИЯ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ) вып. 1/2019(10))

разряда. При парциальном давлении кислорода более 50 % получаемые пленки были оптически прозрачными, одноко обладали высоким удельным сопротивлением. Область I (выше кривой, рис. 1) соответствует темным высокоомным слоям нестехиометрических оксидов, область II (ниже кривой) соответствует прозрачным высокоомным слоям стехиометрических оксидов. Рис. 1. Зависимость скорости напыления оксидов от парциального давления кислорода. Обозначения ■, •, ▲ и^ соответствуют 20, 25, 30 и 40 % содержания кислорода в рабочей атмосфере [7] Fig. 1. Dependence of the deposition rate of oxides on the partial pressure of oxygen. ■, •, ▲ and ▼ correspond to 20, 25, 30 and 40 % of the oxygen content in the working atmosphere [7] Зависимость сопротивления получаемых пленок ITO от скорости напыления для фиксированного парциального давления кислорода (содержание кислорода в составе газовой смеси 25 %, толщина пленок 100 нм) и суммарного давления смеси кислород — аргон, полученная Л. П. Амосовой, имеет минимум (рис. 2, а ). Однако автор отмечает, что если полученные пленки ITO подвергнуть отжигу при температуре 350-450 ◦C в присутствии кислорода, то правая ветвь кривой опускается и становится параллельной оси абсцисс. Подобным образом ведет себя и зависимостью сопротивления от парциального давления кислорода при фиксированной скорости напыления (рис. 2, б ). По результатам эксперимента [7] автор делает вывод, что слои ITO, напыленные магнетронным реактивным распылением металлической мишени на холодную подложку, обладают одновременно высокой проводимостью и прозрачностью только в том случае, когда заданному парциальному давлению кислорода в составе газовой смеси кислород — аргон соответствует строго определенная скорость напыления. При этом важно не только соотношение числа конденсирующихся на подложку атомов In и Sn при росте пленки ITO, но и то, в каком состоянии эти атомы находятся в момент конденсации. 95