Труды КНЦ вып.5 (ХИМИЯ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ вып. 5/2015(31))

Сведения об авторах Храмцов Ярослав Вячеславович, Уральский федеральный университет, г.Екатеринбург, Россия, khramtsov899@gmail.com Толкачева Анна Сергеевна, к.т.н., Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН г.Екатеринбург, Россия, content@mail.ru Шкерин Сергей Николаевич, д.х.н., Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН г.Екатеринбург, Россия , shkerin@mail.ru Плаксин Сергей Владимирович, Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН г.Екатеринбург, Россия , plaksin@ihte.uran.ru Кочедыков Виктор Анатольевич, Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН г.Екатеринбург, Россия , V.kochedykov@ihte.uran.ru Вовкотруб Эмма Гавриловна, Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН г.Екатеринбург, Россия, E.vovkotrub@ihte.uran.ru Khramtsov Yaroslav Vyacheslavovich, Ural Federal University, Yekaterinburg, Russia, khramtsov899@gmail.com Tolkacheva Anna Sergeevna, PhD (Engineering), Institute of High-Temperature Electrochemistry o f the Ural Branch of the RAS, Yekaterinburg, Russia, content@mail.ru Shkerin Sergey Nikolaevich, Dr.Sc. (Chemistry), Institute of High-Temperature Electrochemistry o f the Ural Branch of the RAS, Yekaterinburg, Russia , shkerin@mail.ru Plaksin Sergey Vladinirovich, Institute of High-Temperature Electrochemistry o f the Ural Branch of the RAS, Yekaterinburg, Russia, plaksin@ihte.uran.ru Kochedykov Victor Anatolevich, Institute of High-Temperature Electrochemistry o f the Ural Branch of the RAS, Yekaterinburg, Russia, V.kochedykov@ihte.uran.ru Vovkotrub Emma Gavrilovna, Institute of High-Temperature Electrochemistry o f the Ural Branch of the RAS, Yekaterinburg, Russia, E.vovkotrub@ihte.uran.ru УДК539.216.2 АНОДНОЕ НАНОСТРУКТУРИРОВАНИЕ ТАНТАЛА И НИОБИЯ А.М. Шульга, А.Н. Кокатев, К.В. Степанова, Е.Я. Ханина, Н.М. Яковлева Петрозаводский государственный университет, Петрозаводск, Россия Аннотация Работа посвящена получению нанопористых оксидных пленок на поверхности ниобия и тантала при анодировании в водных и безводных фтор- и нитратсодержащих электролитах. Были выявлены оптимальные условия анодирования, при которых вид кинетических зависимостей плотности тока и напряжения отвечают формированию регулярно-пористой оксидной пленки. Методами сканирующей электронной микроскопии (СЭМ) и атомно-силовой микроскопии (АСМ) подтверждена пористая морфология анодно-оксидной пленки (АОП) с диаметрами до 40 нм для оксида ниобия и до 50 нм для оксида тантала. Показано, что сформированные в оптимальных условиях пористые АОП как на ниобии, так итантале проявляют высокую коррозионную стойкость и антибактериальную активность. Ключевые слова: анодирование, анодно-оксидные пленки, наноструктурированный, пористый, тантал, ниобий. ANODIC SURFACE NANOSTRUCTURING OF TANTALUM AND NIOBIUM A.M. Shulga, A.N. Kokatev, K.V. Stepanova, E.I. Khanina, N.M. Iakovleva Petrozavodsk State University, Petrozavodsk, Russia Abstract The study is dedicated to fabrication of nanoporous oxide films on niobium and tantalum samples by anodizing in aqueous and non-aqueous electrolytes with the addition of fluoride and nitrate. Optimum anodizing conditions have been developed. 498