Труды КНЦ вып.5 (ХИМИЯ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ вып. 5/2015(31))

Рис.7. Сравнительная рентгенограмма образцов, полученных из расплава Na 2 WO 4 (86.5 мол. %) - Na 2 MoO 4 (7.5 мол. %) - Li 2 WO 4 (5.0 мол. %) - Li 2 CO 3 (1.0 мол. %) при плотности тока 0.15, 0.2, 0.25 А/см 2 и продолжительности электролиза 2 ч: 1 - стандартные линии W 2 C; 2 - стандартные линии Mo 2 C; 3 - стандартные линии Fe Заключение Найдены оптимальные условия электрохимического осаждения покрытий двойных карбидов вольфрама и молибдена: состав расплава Na 2 WO 4 - Li 2 WO 4 (4.0-1.0 мол. %) - Li 2 MoO 4 (1.0-4.0 мол. %) - Li 2 CO 3 (5.0-1.0 мол. %), катодная плотность тока 750-1500 А/м2, температура процесса 1123-1173 К, продолжительность электролиза 4 ч. Литература 1. Самсонов Г.В., Эпик А.П. Тугоплавкие покрытия. М.: Металлургия, 1973. С. 400. 2. Андриевский Р.А. Наноматериалы на основе тугоплавких карбидов, нитридов и боридов // Успехи химии. 2005. Т. 74, № 12. С. 1163-1175. 3. Ремпель А.А. Нанотехнологии, свойства и применение наноструктурированных материалов // Успехи химии. Т. 76, № 5. 2007. С. 474. 4. Кушхов Х.Б., Малышев В.В., Тищенко А.А. Электроосаждение карбида вольфрама и карбида молибдена из эвтектического расплава NaCl-LiF // Тезисы докладов IX Всесоюзной конференции по физической химии и электрохимии ионных расплавов и электролитов. Свердловск, 1987. Ч. 2. С. 21. 5. А.с. 1319631 СССР, МКИ С25 Д 33/66. Электролит для нанесения покрытий из карбида молибдена / Х.Б. Кушхов, В.И. Шаповал, В.В. Малышев; опубл. 22.02.1987. 6 . Кушхов Х.Б., Шаповал В.И., Малышев В.В. Электроосаждение покрытий карбида молибдена из галогенидно-оксидных расплавов // Защита металлов. 1990. Т. 26, № 6 . С. 1019. 7. Pat. 4430170 USA, MK tf 1 C 25 D 3/66. Electrodeposition of Refractory Metal Carbides / Stern K.H. Publ. 07.02.1984. 8 . Исследование совместного электровосстановления ионов вольфрама, молибдена и углерода в вольфраматно-молибдатно-карбонатных расплавах / Х.Б. Кушхов, А.Л. Карданов, М.Н. Адамокова, В.А. Квашин // Расплавы. 2010. № 6 . С. 35. 255